Intel ve TSMC gibi büyük yarı iletken üreticilerinin aksine, Micron DRAM üretimi için aşırı sert ultraviyole ışık (EUV) ekipmanlarını kullanmakta acele etmiyor. Ancak, bu yıl Micron, 10 nm sınıfı 1γ (1-gamma) teknolojisi ile EUV kullanarak deneme üretimine başlamayı planlıyor.
DUV-Litografi ve Micron'un Gelecek Planları
Şu anda şirketin tüm seri üretimi, derin ultraviyole (DUV) litografi kullanılarak gerçekleştiriliyor. Ancak yıl sonuna kadar Micron, EUV ekipmanları ile deneme üretimine başlayacak ve 2025 yılında bu üretim tam kapsamlı hale gelebilir. Koreli Samsung, 2020 yılında EUV ekipmanları ile üretilen ilk 10 nm sınıfı DDR4 modüllerini başarıyla teslim ettiğini duyurmuştu. SK hynix ise 2021 yılında 10 nm sınıfı DDR çiplerin üretiminde bu litografiyi kullanmaya başladı ve bu yıl bu ekipmanların alımına 1,5 milyar dolar harcamayı planlıyor.
Micron CEO'su Sanjay Mehrotra'nın Açıklamaları
Micron CEO'su Sanjay Mehrotra, yatırımcılara yaptığı açıklamada, 10 nm sınıfı 1γ teknolojisi ile deneme üretiminin başarılı bir şekilde ilerlediğini ve 2025 yılında yeni nesil ürünlerin seri üretimine başlanmasının planlandığını belirtti. Bu teknoloji, Micron'un Japonya Hiroşima'daki fabrikasında geliştiriliyor ve bu tesis deneme üretimi için ilk yer olacak.
Yapay Zeka ve Yüksek Performanslı Bellek İhtiyacı
Micron, yapay zeka teknolojilerinin neden olduğu yüksek performanslı bellek çiplerine olan talebi karşılamak amacıyla ABD'de HBM üretimi için pilot bir üretim hattı kuruyor ve Malezya'da ikinci bir hattın açılması ihtimalini değerlendiriyor.
Micron'un Gelecekteki EUV Üretim Hedefleri
Micron, EUV teknolojisi ile deneme üretiminde başarılı olursa, bu teknolojiyi seri üretime geçirmeyi ve rakipleriyle aynı seviyeye gelmeyi hedefliyor. Bu, Micron'un DRAM üretiminde daha rekabetçi olmasını sağlayacak ve yüksek performanslı çip talebini daha etkili bir şekilde karşılamasına yardımcı olacak.
DUV ve EUV Teknolojileri Arasındaki Farklar
DUV ve EUV teknolojileri arasında bazı önemli farklar bulunmaktadır. DUV litografi, daha eski bir teknoloji olup, derin ultraviyole ışık kullanarak desenleri yarı iletken yüzeylere aktarır. EUV litografi ise, çok daha kısa dalga boylu ışık kullanarak daha ince ve hassas desenler oluşturur. Bu da daha yüksek verimlilik ve performans sağlar.
Micron'un Hiroşima Fabrikasındaki Gelişmeler
Micron'un Hiroşima'daki fabrikası, EUV teknolojisi ile üretim yapacak ilk tesis olacak. Bu tesis, ileri teknoloji ekipmanları ve uzman personeli ile Micron'un gelecekteki üretim hedeflerine ulaşmasında önemli bir rol oynayacak.
Global Yarı İletken Pazarı ve Micron'un Yeri
Global yarı iletken pazarı, sürekli olarak gelişen teknolojiler ve artan talepler ile büyümeye devam ediyor. Micron, EUV teknolojisine geçiş yaparak bu pazardaki rekabet gücünü artırmayı hedefliyor. Yeni üretim teknikleri ve inovasyonlarla, daha yüksek performanslı ve verimli çipler üretmeyi amaçlıyor.
Micron'un EUV teknolojisi ile ilgili düşünceleriniz nelerdir? Yorumlarınızı bekliyoruz!
